Dispositivo simile ad un piccolo acceleratore di particelle che ha lo scopo di bombardare con ioni di fosforo ad alta velocità la superficie di silicio della cella fv.

Dispositivo simile a un piccolo acceleratore di particelle che ha lo scopo di bombardare con ioni di fosforo ad alta velocità la superficie di silicio della cella fv. Tale procedimento (definito anche con il termine sputering) consente un'accurata valutazione della profondità di penetrazione degli ioni sulla superficie del silicio.